Die Laser der TruMicro-Serien haben sich beim Abtragen, Bohren und Schneiden bereits etabliert. Nun erweitert Trumpf sein Produktprogramm für die Mikrobearbeitung.
Der TruMicro 7250 arbeitet fasergeführt und ist mit einer Wellenlänge von 515 nm und einer hohen mittleren Leistung von 400 W der ideale Laser zum Einsatz in der Herstellung von Dünnschicht- und Leistungstransistoren in der Halbleiterindustrie. Die Materialbearbeitung wie etwa die Rekristallisation von amorphem Silizium in der Produktion von TFT-Bildschirmen wird mit dem Modell energie- und kostengünstiger als dies bislang möglich war. Dank seiner guten Puls-zu-Puls-Stabilität können große Prozessfenster genutzt und auf großen Bearbeitungsflächen einheitliche Ergebnisse erzielt werden. Die hohe Pulsenergie von 10 Millijoule ermöglicht zudem die effiziente Bearbeitung großer Flächen.
Auch den Ultrakurzpulslaser TruMicro 5050 hat Trumpf optimiert. Dank der diodengepumpten Scheibenlaser-Technologie kann das Modell eine mittlere Leistung von 50 W bei einer Pulsdauer unter 10 Pikosekunden und einer Pulsfrequenz bis zu 1000 KHz liefern. Diese für Ultrakurzpulslaser charakteristische „kalte Bearbeitung“ ermöglicht eine schmelz- und gratfreie Mikrobearbeitung. ub
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