Die Jenoptik Laser, Optik, Systeme GmbH stellt neu entwickelte F-Theta-Jenar-Objektive für Emissionswellenlängen von 532 nm und 1064 nm vor – für Präzision und Zuverlässigkeit bei der Materialbearbeitung mit Laserlicht. Verwendet werden sie bei großen Strahldurchmessern und bieten einen sehr großen Scan-Bereich. Neben Standardprodukten mit kompakter modularer Bauweise für die Integration in bestehende Systeme werden auch individuelle UV-Objektive und Laserbauelemente gefertigt, so der Hersteller. Darüber hinaus wird auf dem Messestand die Heißprägeanlage Hex 04 für die industrielle Massenfertigung von Polymerstrukturen im Mikro- und Nanobereich gezeigt. Sie wurde für die hochautomatisierte Herstellung von Mikrofluidikchips und mikroskopische Anwendungen entwickelt.
Jenoptik, Halle 6, Stand F16
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