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Schmutzfilme haben keine Chance

Parts2clean 2018: Plasmareinigung
Schmutzfilme haben keine Chance

Schmutzfilme haben keine Chance
Die Ausstattung der nasschemischen Reinigungsanlage mit einer Niederdruck-Plasmareinigung ermöglicht es, höchste filmische Sauberkeit zu erzielen. Bild: Ecoclean
Das Entfernen filmischer Kontaminationen rückt immer mehr in den Fokus. Ecoclean (Halle 3, Stand B31) präsentiert dafür verschiedene Neuheiten.

Selbst minimale Rückstände filmischer Verunreinigungen wie Öle, Fette, Kühlschmierstoffe, Korrosionsschutzmittel, Konservierungsstoffe oder Trennmittel wirken sich bei vielen nachfolgenden Fertigungsprozessen qualitätsmindernd aus. Für die Feinst-Entfettung, die üblicherweise nach einer nasschemischen Reinigung mit Lösemittel oder wässrigem Medium erfolgt, hat Ecoclean eine innovative Lösung entwickelt. Sie ermöglicht, dass eine zusätzliche Niederdruck-Plasmareinigung in der Arbeitskammer der Nass-Reinigungsanlage durchgeführt werden kann. Durch diese kombinierte Reinigung lassen sich in praktisch einem Prozess die für eine ideale Haftfestigkeit wesentliche freie Oberflächenenergie auf 60 bis 80 mN/m erhöhen. Auf der Parts2clean wird diese Entwicklung am Beispiel der Lösemittelreinigungsanlage EcoCcore vorgestellt.

Eine weitere Neuheit am Stand des Reinigungssystemherstellers ist ein automatisierter, kompakter Applikationsträger für unterschiedlichste Anwendungen im Bereich der partiellen Reinigung und Aktivierung von Werkstücken aus Metallen und Kunststoffen. Je nach Aufgabenstellung kann die schlanke Lösung mit der Plasma-, EcoCsteam-, Laser-, CO2-Schneestrahl- oder EcoCbooster-Technologie ausgestattet und in eine Linienfertigung integriert werden. Es lassen sich damit verschiedenste Aufgabenstellungen, beispielsweise aus der Elektromobilität, Zulieferindustrie und Medizintechnik, effizient und teilweise trocken erfüllen.

Vorgestellt werden zudem eine innovative Cloud-Lösung fürs Digitalisieren von Reinigungsanlagen sowie zukunftsweisende Servicelösungen.

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