Wissenschaftler sind einen wichtigen Schritt vorwärts gekommen auf dem Weg, mikrostrukturierte Bauteile mit dem Fotolack SU-8 herzustellen, der sich für den Röntgen- und UV-Bereich eignet. Die Schwierigkeit bestand bisher darin, den Fotolack (als Form) wieder vom galvanisch erzeugten Mikro-Bauteil zu entfernen. Dies gelingt jetzt für Teile aus Kupfer, Nickel und Nickel-Legierungen, die Anwendbarkeit auf andere Metalle wie Gold und Silber wird zur Zeit untersucht. Das von der Mikrotechnik Mainz GmbH (IMM) und der MOT Mikro- und Oberflächentechnik GmbH, Speyer, entwickelte Verfahren knüpft an ein Patent des IMM von 1998 an.
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