Für leitende und nichtleitende Substrate geeignet

Um dem Trend zu genaueren Mikrogeometrien und scharfen Schneiden von Präzisionswerkzeugen nachzukommen, sind glatte, dünne Beschichtungen – und damit PVD-Beschichtungen – gefragt. Andererseits werden hohe Anforderungen beispielsweise an Standzeit oder Produktivität gestellt. Hier bilden künftig PVD-Oxidschichten die Messlatte – auch wenn heute noch TiAlN-basierte Supernitride Stand der Technik sind.

Zur Herstellung dieser nicht leitenden Hochleistungsbeschichtungen hat die Cemecon AG, Würselen, die sogenannte Sinox-Technik entwickelt und sie in die Beschichtungsanlage CC800/9 sinox übertragen. Die Technik vereint die Vorteile beider Beschichtungsprozesse, weil sie den Hochionisationsprozess HIS (High Ionization Sputtering) und das Niedertemperatur-Puls-Verfahren HIP (High Ionization Pulsing) verbindet. Darüber hinaus ist die Anlage mit der Plasma-Booster-Technik ausgestattet. Deren Hauptvorteile sind hohe Plasmaaktivität, bis zu 30 % verkürzte Prozesszeiten und längere Wartungsintervalle.

Durch die Kombination der genannten High-Tech-Komponenten lassen sich laut Anbieter mit der Anlage alle gängigen Beschichtungssysteme produktionssicher abscheiden. Gleichzeitig eröffne sich eine Vielzahl neuer Möglichkeiten beim Herstellen von Hochleistungsschichtwerkstoffen und beim Beschichten verschiedener Substrate wie Keramiken. Abscheiden lasse sich zum Beispiel PVD Al2O3, kristallines ZrO2, Cr-Oxide und andere technische Oxidschichten wie Mischungen aus den genannten Materialien – und dies gerade so, wie es die Applikation erfordere: besonders glatt, dropletfrei und mit minimalen Eigenspannungen. Außerdem sollen sich leitende und nicht leitende Substrate wie Werkzeugstähle oder Keramiken problemlos beschichten lassen.

Für Inhouse-Beschichter von Interesse: Die modulare Anlage kann exakt auf die Bedürfnisse der jeweiligen Produktion abgestimmt werden. Jede Anlage lässt sich später um neue Schichten und Chargengrößen erweitern. re