Die Halbleitersparte Semiconductor Manufacturing Technology (SMT) der Zeiss-Gruppe investiert in ihren hessischen Standort Roßdorf. Mit neuen Reinräumen und der Schaffung weiterer Arbeitsplätze reagiert das Technologieunternehmen auf die starke Nachfrage nach Equipment für die Halbleiterfertigung.
Die Expansion schafft 300 m² zusätzliche Reinraumflächen – ein Plus von 50 % gegenüber dem Status quo. Außerdem modernisiert Zeiss das Bestandsgebäude, erweitert die Parkflächen und die Logistikhalle und ergänzt den Standort später voraussichtlich um ein Bürogebäude.
„Unsere neuen Reinräume werden eine noch höhere Reinraumqualität haben und bieten eine nahezu vibrationslose Umgebung“, sagt Dr. Patrick Villwock, Standortleiter in Roßdorf. „Das ist entscheidend, um optimale Voraussetzungen für die Weiterentwicklung der Maskenreparaturtechnologie zu schaffen.“
Insgesamt investiert das Unternehmen bis Ende 2026 mehr als 20 Mio. Euro in das Bauvorhaben und die technische Ausstattung des Standorts.
Platz für weiteres Wachstum schaffen
„Mit der Standorterweiterung wollen wir Platz für weiteres Wachstum schaffen, um bei Fortsetzung der Marktentwicklung der vergangenen Jahre unsere Belegschaft langfristig auf bis zu 300 Mitarbeitende zu erhöhen“, erklärt Villwock.
Mit Optiken für die Halbleiterfertigung gehört Zeiss zu den Treibern der Digitalisierung. Dabei sind die Investitionen auch Teil einer langfristigen Wachstumsstrategie der gesamten Unternehmensgruppe. So wächst Zeiss sowohl in Deutschland als auch an vielen internationalen Standorten, um Platz für weitere Innovationen und steigende Mitarbeiterzahlen zu schaffen.
Hochpräzise Lösungen im Bereich Nanostrukturierung
Am Standort in Roßdorf forscht Zeiss SMT vor allem im Bereich Nanostrukturierung und entwickelt Maskenreparatursysteme für die weltweite Halbleiterindustrie. Mithilfe des sogenannten MeRiT-Systems, das auf Elektronenstrahltechnologie basiert, können winzige Defekte auf Photomasken mit Nanometer-Präzision repariert werden.
„Photomasken sind wie ein Dia, das die Strukturmuster beim lithographischen Belichtungsvorgang in der Herstellung von Mikrochips liefert“, erläutert Villwock. „Alle großen Halbleiterhersteller auf der Welt verwenden unsere Systeme, um Photomasken zu reparieren.“ (jk)
