Durch die Integration der Geschäftstätigkeiten von Contrade Microstructure Technology hat ACP seine Produktpalette vergrößert. Erweitert wurde das Portfolio im Bereich der Reinigungstechnologie um Verfahren der Nassreinigung für die Halbleiter- und Solarbranche. Der Bereich der Nassprozesstechnik umfasst Prozessanlagen für die Bereiche Reinigung, Entwicklung, Ätzung, Strip und Metall-Lift-off in Spin- oder Tankprozessen. Darüber hinaus entwickelten die Esslinger neue Verfahren für die nasschemische Bearbeitung und Reinigung von flächigen Substraten im Durchlaufverfahren (In-line). Sie kommen in der kristallinen Dünnschicht-Photovoltaik und Mikroelektronik zum Einsatz – speziell bei Produktionen mit großen Stückzahlen und heterogenen Substratgeometrien. Herzstück ist eine innovative Walzentechnologie. Das Verfahren bietet bei einer Vielzahl von Prozessen für die Reinigung und das homogene Aufbringen von Schichten flüssiger Medien Vorteile, dazu zählen unter anderen eine niedrige Bruchrate sowie minimaler Automatisierungsaufwand und Platzbedarf.
ACP, Esslingen, Tel. (0711) 687039-0, Halle 7, Stand I902/J1003
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