Neue Forschungsfabrik: Schub für die Mikroelektronik

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Neue Forschungsfabrik

Schub für die Mikroelektronik

Beim Startschuss schart Ministerin Wanka die Entscheider um sich, links von ihr Infineon-Chef Dr. Ploss, rechts Fraunhofer-Präsident Prof. Neugebauer. Bild: Fraunhofer /A. Grützner
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Das BMBF setzte den Startschuss für die Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland mit 350 Mio. Euro Fördervolumen.

Um die Position der europäischen Halbleiter- und Elektronikindustrie im globalen Wettbewerb zu stärken, haben elf Institute des Fraunhofer-Verbunds Mikroelektronik mit zwei Instituten der Leibniz-Gemeinschaft ein Konzept für eine standortübergreifende Forschungsfabrik für Mikro- und Nanoelektronik erarbeitet. Die Bundesforschungsministerin Prof. Johanna Wanka übergab am 6. April dafür die Bewilligungsbescheide – 280 Mio. Euro für Fraunhofer und 70 Mio. Euro für Leibniz.

Die Forschungspartner behalten ihre Standorte und führen ihre Aktivitäten in dem übergreifenden Technologiepool „Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland“ zusammen – den Ausbau und Betrieb koordiniert eine gemeinsame Geschäftsstelle. Ziel ist es, der Industrie und den Universitäten die gesamte Wertschöpfungskette unkompliziert aus einer Hand anbieten zu können.
Um die Position der europäischen Halbleiter- und Elektronikindustrie im globalen Wettbewerb zu stärken, haben elf Institute des Fraunhofer-Verbunds Mikroelektronik mit zwei Instituten der Leibniz-Gemeinschaft ein Konzept für eine standortübergreifende Forschungsfabrik für Mikro- und Nanoelektronik erarbeitet. Die Bundesforschungsministerin Prof. Johanna Wanka übergab am 6. April dafür die Bewilligungsbescheide – 280 Mio. Euro für Fraunhofer und 70 Mio. Euro für Leibniz.
Die Forschungspartner behalten ihre Standorte und führen ihre Aktivitäten in dem übergreifenden Technologiepool „Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland“ zusammen – den Ausbau und Betrieb koordiniert eine gemeinsame Geschäftsstelle. Das Ziel ist es, den Kunden aus Großindustrie, kleinen und mittleren Unternehmen sowie den Universitäten die gesamte Wertschöpfungskette für die Mikro- und Nanoelektronik unkompliziert aus einer Hand anbieten zu können.
Der Fokus der institutsübergreifenden Arbeit wird auf vier zukunftsrelevanten Technologiebereichen liegen – „Silizium-basierte Technologien“, „Verbindungshalbleiter und Sondersubstrate“, „Heterointegration“ und „Design, Test und Zuverlässigkeit“. Ein Wissensvorsprung in diesen Gebieten ist eine der Grundvoraussetzungen für wichtige Anwendungsbereiche und die nötige Schlagkraft Deutschlands und Europas im internationalen Wettbewerb, heißt es von Fraunhofer-Seite. In diesen sogenannten Technologieparks werden thematisch und logistisch zusammengehörende Prozesse und Infrastrukturen über Institutsgrenzen hinweg zusammengefasst, organisiert und weiterentwickelt.
Bei der Förderung durch das Bundesministerium für Bildung und Forschung BMBF handelt es sich um eine flankierende Maßnahme für das auf europäischer Ebene beantragte „Important Project of Common European Interest“ (IPCEI) zur Mikroelektronik, in dem das Bundesministerium für Wirtschaft und Energie BMWi die deutsche Halbleiterindustrie für die nächsten Produktgenerationen ertüchtigen will. Während das IPCEI auf den Aufbau von industriellen Produktionskapazitäten fokussiert ist, wird die Fraunhofer-Gesellschaft in Kooperation mit den Leibniz-Instituten IHP und FBH mithilfe der Forschungsfabrik Mikroelektronik Deutschland die begleitende Forschung und Entwicklung zur Verfügung stellen.
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