Zwei starke Messen treten jetzt gemeinsam auf: Vom kommenden Jahr an finden die O&S, internationale Fachmesse für Oberflächen und Schichten, und die Parts2clean, internationale Leitmesse für industrielle Teile- und Oberflächenreinigung, zur selben Zeit am selben Ort statt. Daraus sollen sich wertvolle Synergien für Aussteller und Besucher ergeben. Die Parts2clean rückt vom Oktober in den Juni vor und wird weiterhin jährlich veranstaltet. Die O&S behält den Zwei-Jahres-Turnus. Beide Messen bleiben am Standort Stuttgart. Der erste gemeinsame Termin ist der 24. bis 26. Juni 2014.
„Inhaltlich macht es Sinn, die beiden Messen parallel zu organisieren“, sagt Olaf Daebler, Abteilungsleiter Oberflächentechnik bei der Deutschen Messe AG. „Es profitieren nicht nur die Aussteller, die bislang auf beiden Messen vertreten waren, sondern auch die anderen Aussteller und besonders die Besucher. Wir erreichen eine viel größere Strahlkraft im Hinblick auf Kommunikation und Wirkung. Außerdem werden die Messen vor allem für die internationale Zielgruppe noch attraktiver. Mit dem gemeinsamen Auftritt bilden wir das gesamte Spektrum der Oberflächentechnik ab, von der Vorbehandlung und Reinigung bis zur Beschichtung.“
Beide Messemarken bleiben erhalten und auch räumlich werden die Bereiche voneinander abgegrenzt sein, sodass jede Messe für sich erkennbar ist. Die Parts2clean hatte zuletzt im vergangenen Oktober rund 230 Austeller auf einer Fläche von mehr als 6000 m2. Die Besucherzahl lag bei knapp 4500. Zur letzten O&S im Juni 2012 waren fast 7000 Besucher vor Ort. 330 Aussteller hatten damals auf etwa 7500 m2 Fläche ausgestellt.
Parallel zu den beiden Messen werden auf dem Stuttgarter Gelände außerdem die beiden Messen LASYS, internationale Fachmesse für Laser-Materialbearbeitung, und AUTOMOTIVE Expo, ein Zusammenschluss verschiedener Messen aus dem Automotive-Bereich, veranstaltet. Auch 2012 waren die beiden Veranstaltungen zeitgleich zur O&S gelaufen, was zu sehr positivem Feedback von Aussteller- und Besucherseite beider Messen geführt hatte. hw
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