Transparente, leitfähige Beschichtungen gelten als Schlüsselkomponenten der industriellen Oberflächentechnik. Als multifunktionale Materialien kommen sie vor allem für die Kontaktierung von Solarzellen, Displays oder OLED zum Einsatz oder auch für die Dünnschicht-Fotovoltaik. Bisher ist ihre Herstellung allerdings noch kostenintensiv. Fünf Fraunhofer-Institute – IST, ISE, ISC, IWM und IPMS – wollen dies ändern. Dabei verfolgen die Forscher zwei Ansätze: Zum einen wollen sie die Strukturen direkt drucken statt sie über lithografische Prozesse zu strukturieren. Zwar lassen sich mit Hilfe des Sol-Gel-Verfahrens Schichten einfach aufdrucken. Doch reicht die Leitfähigkeit der so hergestellten Schichten für transparente Displays bisher nicht aus. Zudem entwickeln die Forscher Schichten, die den Strom auf andere Art und Weise leiten als die herkömmlichen Beschichtungen. Bei diesen p-leitenden Materialien leiten statt der Elektronen bewegliche Elektronenlücken den Strom. Kombiniert man herkömmliche n-Leiter damit, lassen sich transparente Dioden, Transistoren und Solarzellen realisieren.
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