Mit der Gravurbeschichtung hat das Karlsruher Institut für Technologie (KIT) ein Beschichtungsverfahren entwickelt, mit dem sich etwa für Polymersolarzellen großflächig homogene und fehlstellenfreie Schichten mit Nassfilmdicken von 1 bis 50 µm erzielen lassen. Dabei wird das Material in der Flüssigphase durch eine Walze mit auf der Oberfläche aufgebrachten regelmäßigen Strukturen aufgenommen und auf das Substrat übertragen. Die Oberflächenmerkmale, welche sich grundsätzlich in offene (Nuten) und geschlossene (Näpfchen) Strukturen unterteilen lassen und in ihrer Verteilungsdichte variieren können, haben dabei einen entscheidende Einfluss auf dieses Übertragungsverhalten. Um dabei die Grenzen des Beschichtungsverfahrens ausloten zu können, wird bei der Herstellung die größtmögliche Feinheit der Strukturen, welche durch das Bearbeitungsverfahren vorgegeben ist, angestrebt. Die Strukturierung wird am KIT auf einem 5-Achs Bearbeitungszentrum mit integriertem ps-Laser durchgeführt. Durch einen nachgeschalteten Frequenzkonverter mit der Möglichkeit einer Wellenlängenvariation lässt sich der Laserstrahl im Vergleich zur Ausgangswellenlänge (1030 nm) noch stärker fokussieren, wodurch kleinste Strukturen im Bereich von wenigen µm erzeugt werden können.
KIT, Karlsruhe, Tel. (0721) 608-0, Halle 2, Stand C18
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